Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern using same, polymer, and compound

WO2012074025 Art A1 7. Juni 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012074025
Aktenzeichen: EP11844309
Anmeldetag: 30. November 2011
Veröffentlichung: 7. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C69/54C07C69/734C08F20/10C08L33/04G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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