Radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive acid generator

WO2012074077 Art A1 7. Juni 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012074077
Aktenzeichen: EP11844474
Anmeldetag: 1. Dezember 2011
Veröffentlichung: 7. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/10C08K5/42C08L33/04G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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