Insulated gate bipolar transistor (igbt) and method for manufacturing the same

WO2012075905 Art A1 14. Juni 2012

Anmelder: CSMC Technologies Fab1 Co., Ltd., CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012075905
Aktenzeichen
EP11846450
Anmeldetag
1. Dezember 2011
Veröffentlichung
14. Juni 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/72H01L29/735
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
CSMC Technologies Fab1 Co., Ltd.
CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 CSMC Technologies Fab2

CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. ist ein chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Wuxi, der als Foundry Leistungshalbleiter und analoge Bauelemente fertigt. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Elektronik, Optik und Mess- und Prüftechnik. Anmeldungen erfolgen seit 2010 bis in die Gegenwart.

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