Methods and apparatus for inspection of articles, euv lithography reticles, lithography apparatus and method of manufacturing devices

WO2012076216 Art A1 14. Juni 2012

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012076216
Aktenzeichen: EP11769839
Anmeldetag: 6. Oktober 2011
Veröffentlichung: 14. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/94G01N21/956G03F7/20H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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