Silicon oxynitride film and method for forming same, and semiconductor device
WO2012077163
Art A1
14. Juni 2012
Anmelder: Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012077163
- Aktenzeichen
- EP10860603
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/318H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissin Electric Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissin Electric
Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.
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