Silicon oxynitride film and method for forming same, and semiconductor device

WO2012077163 Art A1 14. Juni 2012

Anmelder: Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012077163
Aktenzeichen
EP10860603
Anmeldetag
8. Dezember 2010
Veröffentlichung
14. Juni 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/318H01L21/336H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nissin Electric Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissin Electric

Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.

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