Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method using same
WO2012077592
Art A1
14. Juni 2012
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012077592
- Aktenzeichen
- EP11847699
- Anmeldetag
- 2. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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