Sputtering target for magnetic recording film and method for producing same

WO2012081340 Art A1 21. Juni 2012

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012081340
Aktenzeichen: EP11848915
Anmeldetag: 9. November 2011
Veröffentlichung: 21. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851B22F3/10B22F9/08C22C1/05C22C19/07C22C32/00C23C14/34G11B5/64

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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