Ferromagnetic sputtering target and method for manufacturing same

WO2012081363 Art A1 21. Juni 2012

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012081363
Aktenzeichen: EP11848870
Anmeldetag: 21. November 2011
Veröffentlichung: 21. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/85

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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