Polyamide resin composition having excellent reflectivity, heat resistance, and water resistance
WO2012081801
Art A1
21. Juni 2012
Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012081801
- Aktenzeichen
- EP11848301
- Anmeldetag
- 26. August 2011
- Veröffentlichung
- 21. Juni 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08L77/10C08K3/32C08G69/32C09C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cheil Industries Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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