Photosensitive polymer, photoresist composition including same, and method for forming resist pattern using same

WO2012081863 Art A2 21. Juni 2012

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012081863
Aktenzeichen: EP11849275
Anmeldetag: 9. Dezember 2011
Veröffentlichung: 21. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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