Cleaning liquid composition for photolithography

WO2012081865 Art A2 21. Juni 2012

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012081865
Aktenzeichen
EP11849662
Anmeldetag
12. Dezember 2011
Veröffentlichung
21. Juni 2012
Rechtsraum
WO
IPC
C11D3/37G03F7/42
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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