Process for treating a semiconductor wafer
WO2012085817
Art A1
28. Juni 2012
Anmelder: Lam Research AG 🇦🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012085817
- Aktenzeichen
- EP11851790
- Anmeldetag
- 19. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 28. Juni 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D1/02H01L21/02C11D1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research AG
- Land
- 🇦🇹 Österreich
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
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