Polishing method, polishing apparatus, and polishing cloth

WO2012086129 Art A1 28. Juni 2012

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012086129
Aktenzeichen: EP11850951
Anmeldetag: 28. November 2011
Veröffentlichung: 28. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/10B24B37/26B24B37/30H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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