Semiconductor substrate, method for manufacturing semiconductor substrate, and vertical-cavity surface-emitting laser
WO2012086150
Art A1
28. Juni 2012
Anmelder: Sumitomo Chemical Company Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012086150
- Aktenzeichen
- EP11852166
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 28. Juni 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S5/183H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Chemical Company Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.
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