Sputtering target for magnetic recording film, and process for production thereof

WO2012086300 Art A1 28. Juni 2012

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012086300
Aktenzeichen: EP11851738
Anmeldetag: 19. Oktober 2011
Veröffentlichung: 28. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851B22F3/14C22C1/05C22C19/07C22C32/00C22C38/00C23C14/34G11B5/64G11B5/65

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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