Fe-pt-based sputtering target with dispersed c particles

WO2012086335 Art A1 28. Juni 2012

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012086335
Aktenzeichen: EP11851896
Anmeldetag: 14. November 2011
Veröffentlichung: 28. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851C22C33/02C23C14/34G11B5/64G11B5/65

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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