Method for forming fine pattern in large area using laser interference exposure, method for non-planar transfer of the fine pattern formed by the method, and article to which the fine pattern is transferred by the transfer method

WO2012087075 Art A2 28. Juni 2012

Anmelder: Korea Institute of Industrial Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012087075
Aktenzeichen: EP11851749
Anmeldetag: 23. Dezember 2011
Veröffentlichung: 28. Juni 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/26G03F7/40H01L31/042

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Institute of Industrial Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von