Radiation-sensitive resin composition and compound

WO2012090959 Art A1 5. Juli 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012090959
Aktenzeichen
EP11852260
Anmeldetag
26. Dezember 2011
Veröffentlichung
5. Juli 2012
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004C07C22/02C07C309/19C07C313/04C07C381/12C07D307/00C08K5/42C08L101/02G03F7/039
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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