Photosensitive resin composition for resin black matrix

WO2012091401 Art A2 5. Juli 2012

Anmelder: Kolon Industries, Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012091401
Aktenzeichen
EP11853057
Anmeldetag
27. Dezember 2011
Veröffentlichung
5. Juli 2012
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/027G03F7/031
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kolon Industries, Inc.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Kolon Industries

Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.

834 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen