System and method for gas leak control in a substrate holder

WO2012094139 Art A1 12. Juli 2012

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012094139
Aktenzeichen: EP11817255
Anmeldetag: 19. Dezember 2011
Veröffentlichung: 12. Juli 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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