Exposure device and exposure method

WO2012096069 Art A1 19. Juli 2012

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012096069
Aktenzeichen: EP11855597
Anmeldetag: 1. Dezember 2011
Veröffentlichung: 19. Juli 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/1337G02F1/13G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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