Radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive acid generator

WO2012096264 Art A1 19. Juli 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012096264
Aktenzeichen: EP12734711
Anmeldetag: 10. Januar 2012
Veröffentlichung: 19. Juli 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/12C07C381/12C08K5/42C08L33/04C09K3/00G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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