Method for forming tisin film and storage medium

WO2012096293 Art A1 19. Juli 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012096293
Aktenzeichen: EP12734734
Anmeldetag: 11. Januar 2012
Veröffentlichung: 19. Juli 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/34H01L21/285H01L21/8242H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von