Low molecular weight compound, radiation-sensitive composition, and method for forming resist pattern

WO2012098828 Art A1 26. Juli 2012

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012098828
Aktenzeichen: EP12736787
Anmeldetag: 6. Januar 2012
Veröffentlichung: 26. Juli 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C07C39/12C07C39/17C07C43/178G03F7/004G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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