Ge-on-insulator structure and method for forming the same
WO2012100519
Art A1
2. August 2012
Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012100519
- Aktenzeichen
- EP11857243
- Anmeldetag
- 27. Juli 2011
- Veröffentlichung
- 2. August 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/84H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tsinghua University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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