Process for producing a substrate for a reflective optical element for euv lithography

WO2012101090 Art A1 2. August 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012101090
Aktenzeichen: EP12703473
Anmeldetag: 23. Januar 2012
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B24B7/24C03C15/02G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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