Method for forming resist pattern, and radiation-sensitive resin composition

WO2012101942 Art A1 2. August 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012101942
Aktenzeichen: EP11857244
Anmeldetag: 21. Dezember 2011
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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