Reactor for manufacturing polycrystalline silicon and method for manufacturing polycrystalline silicon
WO2012101969
Art A1
2. August 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012101969
- Aktenzeichen
- EP12738901
- Anmeldetag
- 12. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 2. August 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/035
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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