Method for treating metal film and treatment device

WO2012102139 Art A1 2. August 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012102139
Aktenzeichen: EP12739053
Anmeldetag: 17. Januar 2012
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302C23F4/00H01J27/02H01J37/317H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von