Photosensitive resin composition, photosensitive element, permanent mask resist, and process for production of permanent mask resist

WO2012102310 Art A1 2. August 2012

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012102310
Aktenzeichen: EP12738725
Anmeldetag: 25. Januar 2012
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027C07F9/30C08F290/06G03F7/004H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von