Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device
WO2012102314
Art A1
2. August 2012
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012102314
- Aktenzeichen
- EP12739989
- Anmeldetag
- 19. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 2. August 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/786G03F7/40H01L21/28H01L21/3205H01L21/336H01L21/8242H01L21/8247H01L27/108H01L27/115H01L27/146H01L29/417H01L29/788H01L29/792
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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