Filtration filter and filtration filter production method

WO2012102408 Art A1 2. August 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012102408
Aktenzeichen: EP12739109
Anmeldetag: 25. Januar 2012
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B01D71/02B01D69/12C04B38/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von