Carbon Addition For Low Resistivity in Situ Doped Silicon Epitaxy

WO2012102755 Art A1 2. August 2012

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012102755
Aktenzeichen: EP11856730
Anmeldetag: 27. Juli 2011
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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