Using multiple masks to form independent features on a workpiece

WO2012103104 Art A1 2. August 2012

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012103104
Aktenzeichen: EP12702712
Anmeldetag: 24. Januar 2012
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/48H01L21/266H01L31/18G21K1/02G21K5/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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