A method for calculating an offset value for aligned deposition of a second pattern onto a first pattern

WO2012103188 Art A2 2. August 2012

Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, Innovalight, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012103188
Aktenzeichen: EP12704177
Anmeldetag: 25. Januar 2012
Veröffentlichung: 2. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G06T7/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: E. I. du Pont de Nemours and Company
Innovalight, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 DuPont

US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.

7.829 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

Vertreten von