Method and apparatus for correcting errors in an euv lithography system

WO2012103933 Art A1 9. August 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Pixer Technology Ltd 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012103933
Aktenzeichen: EP11705476
Anmeldetag: 1. Februar 2011
Veröffentlichung: 9. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: B23K26/00G03F7/20G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Pixer Technology Ltd
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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