Substrate table, lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2012103967 Art A1 9. August 2012

Anmelder: ASML Netherlands BV, Compen, Rene 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012103967
Aktenzeichen: EP11782647
Anmeldetag: 17. November 2011
Veröffentlichung: 9. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands BV
Compen, Rene
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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