Mirror for the euv wavelength range, method for producing such a mirror, projection lens for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens

WO2012104136 Art A1 9. August 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012104136
Aktenzeichen: EP12701099
Anmeldetag: 16. Januar 2012
Veröffentlichung: 9. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/06G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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