Composition for forming silicon-containing film, method for forming impurity-diffused layer, and solar cell

WO2012105163 Art A1 9. August 2012

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012105163
Aktenzeichen
EP12741816
Anmeldetag
13. Januar 2012
Veröffentlichung
9. August 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/22H01L21/225H01L31/04
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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