Sputtering target for forming magnetic recording medium film, and method for producing same

WO2012105201 Art A1 9. August 2012

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012105201
Aktenzeichen: EP12742593
Anmeldetag: 27. Januar 2012
Veröffentlichung: 9. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/14C22C1/05C22C5/04C22C30/02C22C33/02C22C38/00G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von