Photoresist Composition

WO2012105417 Art A1 9. August 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012105417
Aktenzeichen: EP12741555
Anmeldetag: 26. Januar 2012
Veröffentlichung: 9. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/18C08F220/22G03F7/004G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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