Plasma processing device
WO2012105641
Art A1
9. August 2012
Anmelder: IHI Corporation, IHI Machinery and Furnace Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2012105641
- Aktenzeichen
- EP12741986
- Anmeldetag
- 2. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 9. August 2012
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C8/36C21D1/09C21D1/773F27D11/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IHI Corporation
IHI Machinery and Furnace Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
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