Composition for forming silica-containing coating film for inkjet applications, method for forming silica-containing coating film, semiconductor device, and solar cell system

WO2012108072 Art A1 16. August 2012

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012108072
Aktenzeichen: EP11858148
Anmeldetag: 25. August 2011
Veröffentlichung: 16. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C09D11/00C09D7/12C09D183/06H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von