Sputtering target for forming transparent film for solar cells, and process for production thereof

WO2012108157 Art A1 16. August 2012

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012108157
Aktenzeichen: EP12744719
Anmeldetag: 3. Februar 2012
Veröffentlichung: 16. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/16C04B35/453H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von