Silicon diaphragm formation with embedded oxide support

WO2012108758 Art A2 16. August 2012

Anmelder: Mimos, Berhad 🇲🇾

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012108758
Aktenzeichen: EP12745038
Anmeldetag: 13. März 2012
Veröffentlichung: 16. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/74

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mimos, Berhad
Land: 🇲🇾 Malaysia

🇲🇾 Mimos Berhad

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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