Composition for forming n-type diffusion layer, process for producing n-type diffusion layer, and process for producing solar cell

WO2012111575 Art A1 23. August 2012

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012111575
Aktenzeichen: EP12746735
Anmeldetag: 10. Februar 2012
Veröffentlichung: 23. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/225H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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