Method for producing substrate having surface nanostructure

WO2012111694 Art A1 23. August 2012

Anmelder: Riken, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012111694
Aktenzeichen
EP12747012
Anmeldetag
15. Februar 2012
Veröffentlichung
23. August 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027B82B3/00G03F7/32G03F7/38
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Riken
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 RIKEN

Japanische staatliche Forschungseinrichtung mit Sitz in Wako bei Tokio, aktiv in Physik, Chemie, Biologie und Ingenieurwissenschaften mit zahlreichen Forschungszentren.

1.683 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

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