Etch process control using optical metrology and sensor devices

WO2012112959 Art A1 23. August 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Madriaga, Manuel, Tian, Xinkang 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012112959
Aktenzeichen: EP12747663
Anmeldetag: 17. Februar 2012
Veröffentlichung: 23. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Madriaga, Manuel
Tian, Xinkang
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von