Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus, and method for controlling the laser apparatus

WO2012114172 Art A1 30. August 2012

Anmelder: Gigaphoton Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2012114172
Aktenzeichen
EP12710783
Anmeldetag
8. Februar 2012
Veröffentlichung
30. August 2012
Rechtsraum
WO
IPC
H01S3/23H01S3/10G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Gigaphoton Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Gigaphoton

Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.

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