Cleaning gas and remote plasma cleaning method using same

WO2012114611 Art A1 30. August 2012

Anmelder: Central Glass Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2012114611
Aktenzeichen: EP11859396
Anmeldetag: 14. Dezember 2011
Veröffentlichung: 30. August 2012
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/44H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Central Glass Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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